Die wahren Kosten eines Lecks
Ein Vakuumleck ist selten so deutlich, dass es einen Prozess stört; die meisten Lecks bleiben unbemerkt.
Ein Vakuumleck ist selten so deutlich, dass es einen Prozess stört; die meisten Lecks bleiben unbemerkt.
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, ein Mitglied der globalen Busch Group, hat am Hauptsitz in Aßlar ein neues Applikationslabor eröffnet.
Pfeiffer blickt auf Jahrzehnte technologischen Fortschritts in der Lecksuche zurück – vom ersten Lecksucher ASM 4 bis zum neuen ASM HVM.
Erfahren Sie in unserem Artikel über die Möglichkeiten und Grenzen der Dichtheitsprüfung mit Druckänderungsverfahren, insbesondere im Kontext von Vakuumöfen.
Oberhalb der dünnen Schicht der Atmosphäre bildet das All eine faszinierende, aber unbarmherzige Umgebung: Mikrogravitation, extreme Temperaturschwankungen und Drücke bis zu extrem hohem Vakuum.
Die richtige Auswahl von Vakuumlösungen ermöglichen einen zuverlässigen und effizienten Laborbetrieb
Dr. Martin Rehwald wurde mit dem diesjährigen Nachwuchspreis des Arbeitskreises Beschleunigerphysik der Deutschen Physikalischen Gesellschaft (DPG) ausgezeichnet.
Nach längerer Nutzungsdauer sind mit O-Ringen abgedichtete Verbindungen in einem Vakuumsystem möglicherweise nicht mehr vollständig dicht. Die Schrauben weiter anzuziehen, hilft dann nicht.
Vakuum-Booster sind unverzichtbar in Anwendungen, in denen hohe Saugvermögen und niedrige Drücke erforderlich sind – z. Bsp. in der Lebensmittelverpackung, Beschichtung, Metallurgie und Lecksuche.
Verbesserung der Messzuverlässigkeit durch Prüfkonfigurationen mit offenen Behältern.
Zehn häufige Fehler beim Einsatz von Turbomolekular-Vakuumpumpen – und wie Sie teure Ausfälle vermeiden. Praxisnah erklärt: von falscher Auslegung bis zu kritischen Betriebsbedingungen.
Beim Verbinden von Hartmetallen, Diamanten oder Keramik stoßen konventionelle Lötverfahren schnell an ihre Grenzen.
Beim Verbinden von Hartmetallen, Diamanten oder Keramik stoßen konventionelle Lötverfahren schnell an ihre Grenzen.
Die UltiDry wurde für anspruchsvolle Halbleiteranwendungen entwickelt und kombiniert robuste Leistung mit hoher Energieeffizienz und Prozessflexibilität.
OmniDetect wurde für den Einsatz in der Halbleiterproduktion, in industriellen Anwendungen und F&E-Umgebungen entwickelt und bietet hohe Leistung, kurze Zykluszeiten sowie präzise Ergebnisse
Pfeiffer hat sein Portfolio an Turbomolekular-Vakuumpumpen um die ATH 4506 M ergänzt – das größte Modell der ATH-M Baureihe.
Diese kompakte Einheit ist eine Erweiterung der COMBI Baureihe und besteht aus einem PANDA Vakuum-Booster sowie einer zweistufigen ölgeschmierten DuoVane Drehschieber-Vakuumpumpe.
Die DREEBIT GmbH hat eine leistungsstarke Ionenquelle entwickelt, die bahnbrechende Messungen des Kohlenstoffkerns ermöglicht.
Nach einer einjährigen Evaluierungsphase bietet Pfeiffer nun ITER-Flansche an und unterstützt damit das weltweit größte Forschungsprojekt im Bereich der Fusionsenergie.
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, ein Mitglied der globalen Busch Group, hat heute ARGOS vorgestellt, einen Vor-Ort-Service für maschinelles Lernen und Analysen in Halbleiterfabriken.
Skalierbare Vakuumlösungen von Busch optimieren Wasserstoffproduktion und CO?-Abscheidung – für mehr Sicherheit, Effizienz und eine nachhaltige Energiezukunft.
Innovative Technologie von Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, ein Mitglied der Busch Group, präsentiert vom 18. bis 21. November 2025 auf der Semicon Europa 2025 in München.
Zahlreiche Funktionen auf der neuen Webseite von Pfeiffer sorgen für ein informatives und nutzerzentriertes Erlebnis.
Pfeiffer Vacuum stellt Vakuummessgeräte für die rauen Einsatzbedingungen in der Halbleiterindustrie vor.